曙海教育集团  
上海:021-51875830 北京:010-51292078
西安:029-86699670 南京:4008699035
成都:4008699035 武汉:027-50767718
广州:4008699035 深圳:4008699035
沈阳:024-31298103 石家庄:4008699035☆
全国统一报名免费电话:4008699035 微信:shuhaipeixun或15921673576 QQ:1299983702
   集成电路版图设计/IC Layout培训班
   课程目标
       通过培训使学员专项技能水平达到相当于中级技术等级;掌握集成电路基本工艺设计知识、版图设计基础知识,了解半导体基础理论,能熟练使用EDA软件软件进行基本版图设计。
  培养对象
       专注于IC设计领域的人和希望了解整个IC设计流程的工程师,即将介入IC?设计领域的毕业生,即将转为从事半导体工作的人员,已经从事IC设计,如概念工程师,设计工程师,布线工程师,测试工程师,应用工程师,IC芯片设计项目经理。
   入学要求

        学员学习本课程应具备下列基础知识:
        ◆电路系统的基本概念。

   班级规模及环境--热线:4008699035 手机:15921673576( 微信同号)
       坚持小班授课,为保证培训效果,增加互动环节,每期人数限3到5人。
   上课时间和地点
上课地点:【上海】:同济大学(沪西)/新城金郡商务楼(11号线白银路站) 【深圳分部】:电影大厦(地铁一号线大剧院站)/深圳大学成教院 【北京分部】:北京中山/福鑫大楼 【南京分部】:金港大厦(和燕路) 【武汉分部】:佳源大厦(高新二路) 【成都分部】:领馆区1号(中和大道) 【沈阳分部】:沈阳理工大学/六宅臻品 【郑州分部】:郑州大学/锦华大厦 【石家庄分部】:河北科技大学/瑞景大厦 【广州分部】:广粮大厦 【西安分部】:协同大厦
近开课时间(周末班/连续班/晚班)
集成电路版图设计班:2024年11月18日.....
   实验设备
     ☆资深工程师授课

        
        ☆注重质量
        ☆边讲边练

        ☆合格学员免费推荐工作

        

        专注高端培训17年,曙海提供的课程得到本行业的广泛认可,学员的能力
        得到大家的认同,受到用人单位的广泛赞誉。

        ★实验设备请点击这儿查看★
   质量保障

        1、培训过程中,如有部分内容理解不透或消化不好,可免费在以后培训班中重听;
        2、课程完成后,授课老师留给学员手机和Email,保障培训效果,免费提供半年的技术支持。
        3、培训合格学员可享受免费推荐就业机会。

        集成电路版图设计/IC Layout培训班
  课程进度安排
课程大纲

第一阶段

课程进度安排  
时间 课程大纲  
第一阶段  
学习目标 掌握Linux基本操作,vi编辑器的使用,virtuoso软件的操作。  
  1 Linux的用户界面及工作站的登陆。
1.1 Linux概述
1.2 Linux系统访问
1.3 Linux的图形用户界面
1.4 Linux的文件和目录
1.5 文本编辑器Vi
实验:登陆工作站,访问相关目录和文件,编辑文件。
 
  2 virtuoso软件的启动
2.1 virtuoso软件的配置文件cds.lib
2.2 icfb的启动:icfb
2.3 版图建库的文件display.drf
实验:编辑 cds.lib文件。
启动icfb,建立一个layout 库,删除一个库。
3 virtuoso软件的操作
3.1 快捷的默认设置。
3.2 快捷的个人设置,怎么修改快捷键。
3.3 Grid的设置----0.005u
3.4 绘制Path、Rectangle
实验:编辑.cdsinit 文件。
使用快捷键绘制Path、Rectangle,切除、添加部分图形。
 
 

4.
4.1 IC设计流程及
4.2IC版图设计的作用
4.3平面半导体工艺和术语
4.4CMOS基本工艺过程
4.5NMOS/PMOS/NPN/PNP 及其版图实现
4.6反相器的版图实现
4.7版图设计环境及工具的使用
4.8版图编辑的快捷键

第二阶段  
学习目标 了解IC版图的基本概念,半导体的工艺流程,学会做版图的基本器件。  
  5 半导体基础理论、集成电路制造工艺
5.1 PN结
5.2 PN结二极管
5.3 MOS场效应晶体管
5.4 集成电路中的器件结构
5.5 外延生长
5.6 掩膜制版工艺
5.7 光刻
5.8 热氧化
5.9 掺杂工艺(热扩散、离子注入)
5.10 刻蚀
5.11 化学气相淀积
5.12 镀膜
6 集成电路设计概述
6.1 集成电路设计流程和设计工具
6.2 国内外集成电路技术发展概况
6.3 国内外主要集成电路晶圆代工厂(Foundry)介绍
 
  6 半导体器件原理及版图设计
6.1 Design Rule的基本概念及内容。
6.2 MOS管的版图设计及剖面图。
6.3 反相器(invter)的结构及版图设计
6.4 电阻的种类(well\poly\diff\mos)及版图设计
6.5 电容的种类(mim\mom\mos)及版图的设计
6.6 二极管及三极管的原理及版图设计
实验:做一个mos管,做所有的电阻和电容器件,做一个二极管及三极管。做一个invter,且把几个invter串起来组成一个小电路。
 
  7.1并联晶体管的版图实现
7.2串联晶体管的版图实现
7.3棍棒图
7.4二输入与非门和或非门的版图实现
7.5设计规则的介绍
7.6高驱动门及其版图: 多指
第三阶段  
学习目标 学会DRC和LVS。  
     
 

8.设计一个NAND芯片版图
9 DRC的概念及检查DRC的软件。
9.1 DRC的概念,基于Design Rule的check.
9.2DRC的配置及操作。
9.3 DRC的介绍。
9.4 DRC Results 的读取及修改ERROR。
10 LVS的概念及检查LVS
10.1 LVS的概念,Netlist的手工提取和自动提取。
10.2 Calibre LVS的配置及操作。
10.3 LVS Command file (runset)的介绍
10.4 LVS Report 的读取及修改ERROR。
实验:
1、INV芯片的LVS验证及修改
2、Control芯片的LVS验证及修改

 
  11.1较大晶体管的串联版图设计
11.2复杂逻辑电路版图设计举例
11.3如何进行设计规则的检查(DRC)
11.4版图与逻辑设计一致性验证(LVS)
11.5层次化结构
11.6总体设计
11.7实验课题的布局规划
第四阶段  
学习目标 掌握做一个OPAMP的版图设计及LVS DRC的Check。  
  12 IC layout模拟模块设计
12.1 OPAMP的原理及版图设计
12.2 交差对称的概念及版图设计(很重要)
12.3 Dummy的概念、原理及如何添加dummy
实验:做交差对称,注意dummy.
 
  12.4 屏蔽线(Shielding line)的作用及做法。
12.5 其它对称的概念及版图设计
12.6 不同器件特性相对版图布局的关系
12.7 关键线的连接
12.8 电源和地线的连接
12.9 LVS DRC check
验:完成OP版图,及LVS DRC的check。
 
 
第五阶段
学习目标 掌握大型Chip 的概念及布局,完成一个chip。
  13 Chip 的概念及布局
13.1 PAD的概念和做法
13.2 Under PAD的器件做法及对PAD的要求。
13.3 ESD器件和PAD及内部模块的连接
13.4 电源和地线间的ESD放电通路,Power clamp的版图设计。
13.5 当对任意PAD打ESD时的放电通路。
13.6 ESD器件和内部的隔离
13.7 Sealring的概念和做法。
13.8 划片道的概念及通常大小
13.9 Density的概念和原因及添加Density的方法。
13.10 Antenna现象的发生及修改。
  14.1.电源总线及信号总线
14.2 版图中非悬空输入
14.3 ESD电路
14.4 IC 功耗
14.5 双极工艺介绍
14.6 模拟电路及其版图设计
  实验:
1 做一个PAD。
2 把PAD放在ESD器件上面,即做一个Under PAD的器件。
4 完成一个完整的chip